Китайский стартап Langdao Silex продемонстрировал разработку первого отечественного источника лазера экстремального ультрафиолета (EUV) для литографии, постепенно прокладывая путь к полной независимости цепочки поставок Китая. Система, названная FlintNano LPP-OXXO, reportedly обеспечивает более 15 Вт выходного излучения EUV и использует компоненты, которые примерно на 90% являются отечественного происхождения или разработаны локально. Она основана на лазерно-порождённой плазме (LPP), технике, использующей высокомощные лазеры для генерации плазмы и производства излучения EUV, необходимого для передового производства чипов, аналогично процессу, используемому ASML. Согласно спецификациям, опубликованным Langdao Silex, система Flint Nano использует движущий лазер мощностью 1,000 Вт, работающий с частотой повторения от 1 до 20 кГц. Ее коэффициент преобразования превышает 2%, и компания заявляет, что оборудование может работать непрерывно более 100 часов. Прототип reportedly подходит для тестирования экспозиции пластин, хотя для этого всё ещё необходима дополнительная тонкая настройка.
Читатели могут вспомнить, что инструменты EUV-литографии запрещены к продаже в Китае, поскольку правительство США ранее оказывало давление на правительство Нидерландов, чтобы остановить продажи этих передовых инструментов. Фактически, ASML никогда не поставляла ни одного сканера EUV в Китай, поскольку правительство Нидерландов, под давлением США, заблокировало экспорт в 2019 году. Ни одной системы пока не развернуто, но ASML продолжает поставлять системы DUV китайским клиентам. Более того, разработка источника света является лишь одной частью создания полной системы EUV-литографии. Такие системы также требуют чрезвычайно точных отражающих оптик, сложных механизмов позиционирования пластин и сложной интеграции во множество подсистем. Китайские компании в настоящее время серийно производят иммерсионные DUV-машины. Например, Shanghai Yuliangsheng Technology разрабатывает лазер аргон-фторид (ArF) эксимерный для производства света DUV длиной волны 193 нм, но EUV всё ещё находится на расстоянии нескольких лет. Даже наличие функционального отечественного источника света EUV не означает, что Китай разработал полную систему EUV-литографии.
Источник: TechPowerUp News · Сводку подготовил HeadlinesBriefing