الStartup الصينية Langdao Silex أظهرت تطوير أول مصدر ليزر litografía فوق البنفسجي الشديد (EUV) محلي الصنع، ممهدة تدريجيًا الطريق لاستقلال سلاسل التوريد الصينية بالكامل. النظام، المسمى FlintNano LPP-OXXO، reportedly يوفر أكثر من 15 واط من إخراج EUV ويستخدم مكونات تبلغ نسبتها تقريبًا 90% محلية الصنع أو مطورة محليًا. يعتمد على الليزر-produce plasma (LPP)، وهي تقنية تستخدم ليزرات عالية الطاقة لتوليد البلازما وإنتاج الإشعاع EUV المطلوب لتصنيع الشرائح المتقدمة، مشابهة للعملية المستخدمة بواسطة ASML. وفقًا للمواصفات التي نشرتها Langdao Silex، يستخدم نظام Flint Nano ليزر دفع بقوة 1,000 واط يعمل بترددات تكرار بين 1 و20 كيلوهرتز. كفاءة التحويل تتجاوز 2%، وتزعم الشركة أن المعدات يمكن أن تعمل بشكل مستمر لأكثر من 100 ساعة. النموذج الأولي reportedly مناسب لاختبار تعريض الرقاقات، على الرغم من أن ضبطًا دقيقًا إضافيًا لا يزال ضروريًا.
قد يتذكر القراء أن أدوات litografía EUV محظورة من البيع في الصين، حيث ضغطت حكومة الولايات المتحدة سابقًا على الحكومة الهولندية لوقف مبيعات هذه الأدوات المتقدمة. في الواقع، لم تشحن ASML أبدًا ماسح EUV واحد إلى الصين، حيث حظرت الحكومة الهولندية، تحت ضغط من الولايات المتحدة، الصادرات في 2019. لم يتم نشر أي نظام حتى الآن، لكن ASML تستمر في شحن أنظمة DUV للعملاء الصينيين. والأهم من ذلك، أن تطوير مصدر ضوء هو مجرد جزء واحد من بناء نظام EUV مسح كامل. مثل هذه الأنظمة تتطلب أيضًا بصريات عاكسة دقيقة للغاية، وآليات متطورة لتحديد موضع الرقاقات، وتكاملًا معقدًا عبر العديد من الأنظمة الفرعية. الشركات الصينية حاليًا تنتج بكميات كبيرة آلات DUV غمر. على سبيل المثال، Shanghai Yuliangsheng Technology تطور ليزر excimer فلوريد الأرجون (ArF) لإنتاج ضوء DUV بطول موجة 193 نانومتر، لكن EUV لا يزال بعيدًا سنوات. حتى وجود مصدر ضوء EUV وظيفي محلي الصنع لا يعني أن الصين طورت نظام litografía EUV كاملًا.
المصدر: TechPowerUp News · لخّصه HeadlinesBriefing