La startup chinoise Langdao Silex a démontré le développement de la première source laser de lithographie ultraviolette extrême (EUV) développée localement, ouvrant progressivement la voie à l'indépendance totale de la chaîne d'approvisionnement de la Chine. Le système, nommé FlintNano LPP-OXXO, reportedly fournit plus de 15 W de sortie EUV et utilise des composants qui sont approximativement 90% d'origine nationale ou développés localement. Il repose sur le plasma produit par laser (LPP), une technique utilisant des lasers haute puissance pour générer du plasma et produire le rayonnement EUV nécessaire à la fabrication avancée de puces, similaire au processus utilisé par ASML. Selon les spécifications publiées par Langdao Silex, le système Flint Nano emploie un laser pilote de 1,000 W fonctionnant à des fréquences de répétition comprises entre 1 et 20 kHz. Son efficacité de conversion dépasse 2 %, et l'entreprise affirme que l'équipement peut fonctionner en continu pendant plus de 100 heures. Le prototype reportedly convient aux tests d'exposition des wafers, bien qu'un réglage fin supplémentaire soit encore nécessaire.
Les lecteurs pourraient se rappeler que les outils de lithographie EUV sont interdits à la vente en Chine, car le gouvernement américain avait auparavant pressé le gouvernement néerlandais pour arrêter la vente de ces outils avancés. En fait, ASML n'a jamais expédié un seul scanner EUV vers la Chine, car le gouvernement néerlandais, sous la pression des États-Unis, a bloqué les exportations en 2019. Aucun système n'a encore été déployé, mais ASML continue d'expédier des systèmes DUV aux clients chinois. Plus important encore, développer une source de lumière n'est qu'une partie de la construction d'un scanner EUV complet. De tels systèmes nécessitent également des optiques réfléchissantes extrêmement précises, des mécanismes sophistiqués de positionnement des wafers et une intégration complexe dans de nombreux sous-systèmes. Les entreprises chinoises produisent actuellement en série des machines DUV en immersion. Par exemple, Shanghai Yuliangsheng Technology développe un laser excimer au fluorure d'argon (ArF) pour produire de la lumière DUV à une longueur d'onde de 193 nm, mais l'EUV reste encore éloigné de plusieurs années. Même disposer d'une source de lumière EUV fonctionnelle développée localement ne signifie pas que la Chine ait développé un système complet de lithographie EUV.
Source: TechPowerUp News · Résumé par HeadlinesBriefing