চীনা স্টার্টআপ Langdao Silex প্রথম স্বদেশি অতিরিক্ত অল্ট্রা বায়লেট (EUV) লিথোগ্রাফি লেজার উত্সের উন্নয়ন দেখিয়েছে, যা চীনের সরবরাহ শৃঙ্খলার পূর্ণ স্বাধীনতার দিকে ধীরে-ধীরে পথ প্রস্তুত করছে। এই সিস্টেমের নাম FlintNano LPP-OXXO, যা reportedly 15 W-এর বেশি EUV আউটপুট দেয় এবং এর উপকরণের প্রায় 90% স্বদেশীভাবে উৎস বা উন্নয়ন করা হয়েছে। এটি লেজার-উত্পাদিত প্লাজমা (LPP) প্রযুক্তি पर নির্ভর করে, যেখানে উচ্চ শক্তির লেজার ব্যবহার করে প্লাজমা তৈরি করে এবং উন্নত চিপ উৎপাদনের জন্য প্রয়োজনীয় EUV विकिरণ তৈরি করে, যা ASML দ্বারা ব্যবহৃত প্রক্রিয়ার সাথে সমান। Langdao Silex দ্বারা প্রকাশিত স্পেসিফিকেশनों অনুযায়ী, Flint Nano সিস্টেম একটি 1,000 W চালিত লেজার ব্যবহার করে যা 1 এবং 20 kHz মধ্যে পুনরাবৃত্তি दर पर কাজ করে। এর রূপান্তর দক্ষতা 2%-এর বেশি, এবং কোম্পানির দাবি যে যন্ত্রটি ধারাবাহিকভাবে 100 ঘন্টা থেকে বেশি সময় চালাতে পারে। প্রোটোটাইপ reportedly ওয়افر এক্সপোজার পরীক্ষণের জন্য উপযুক্ত, যদিও আরও সূক্ষ্ম টিউনিং এখনও প্রয়োজন।
পাঠকদের স্মরণ থাকতে পারে যে EUV লিথোগ্রাফি সরঞ্জামগুলো চীনে বিক্রির জন্য নিষিদ্ধ, কারণ যুক্তরাষ্ট্রের সরকার আগে নেদারল্যান্ডের সরকারে দবা দিয়েছিল উন্নত এই সরঞ্জামগুলো বিক্রি বন্ধ করতে। 사실, ASML কখনো চীনে একটি একক EUV স্ক্যানারও পাঠানোনি, কারণ নেদারল্যান্ডের সরকার, যুক্তরাষ্ট্রের চাপে, 2019 সালে রপ্তানি বন্ধ করে দিয়েছিল। এখনো কোনো সিস্টেম চীনে স্থাপন করা হয়নি, কিন্তু ASML চীনের গ্রাহকদের DUV সিস্টেমগুলো সরবরাহ চালিয়ে যাচ্ছে। আরো গুরুত্বপূর্ণ, একটি আলোক উত্স উন্নয়ন করা শুধুমাত্র একটি সম্পূর্ণ EUV স্ক্যানার তৈরি করার একটি অংশ। এই ধরনের সিস্টেমগুলোর lisäksi অতিশয় সঠিক প্রতিবিম্বক অপটিক্স, জটিল ওয়াফার পজিশনিং মেকানিজ़ম এবং licz subsystems জটিল একीकरणও প্রয়োজন। চীনের কোম্পানিগুলি বর্তমানে ডুব DUV মেশিনের量産 করছে। উদাহরণস্বরূপ, Shanghai Yuliangsheng Technology একটি আর্গন-ফ্লোরাইড (ArF) এক্সাইমার লেজার তৈরি করছে যা 193 nm তরঙ্গ দৈর্ঘ্যে DUV আলো তৈরি করতে, কিন্তু EUV এখনও বছর দূরে। এমনকি একটি কার্যকর স্বদেশি EUV আলো উত্স থাকলেও, इसका मतलब यह नहीं है कि चीन ने एक पूर्ण EUV लिथोग्राफी प्रणाली विकसित की है।
উৎস: TechPowerUp News · সারাংশ: HeadlinesBriefing