चीनी स्टार्टअप Langdao Silex ने पहली स्वदेशी अत्यधिक पराबैंगनी (EUV) लिथोग्राफी लेजर स्रोत का विकास प्रदर्शित किया है, जो चीन की आपूर्ति श्रृंखला की पूर्ण स्वतंत्रता की ओर धीरे-धीरे मार्ग प्रशस्त कर रहा है। इस प्रणाली का नाम FlintNano LPP-OXXO है, जो reportedly ponad 15 W EUV आउटपुट देती है और इसके घटक लगभग 90% स्वदेशी रूप से sourced या विकसित किए गए हैं। यह लेजर-उत्पादित प्लाज्मा (LPP) तकनीक पर निर्भर करता है, जिसमें उच्च शक्ति वाले लेजरों का उपयोग प्लाज्मा उत्पन्न करने और उन्नत चिप निर्माण के लिए आवश्यक EUV विकिरण उत्पन्न करने के लिए किया जाता है, जो ASML द्वारा उपयोग की जाने वाली प्रक्रिया के समान है। Langdao Silex द्वारा प्रकाशित विनिर्देशों के अनुसार, Flint Nano प्रणाली एक 1,000 W चलाने वाले लेजर का उपयोग करती है जो 1 और 20 kHz के बीच दोहराव दर पर संचालित होती है। इसका रूपांतरण दक्षता 2% से अधिक है, और कंपनी का दावा है कि उपकरण लगातार 100 घंटे से अधिक समय तक चल सकता है। प्रोटोटाइप reportedly वेपर एक्सपोजर परीक्षण के लिए उपयुक्त है, हालांकि आगे सूक्ष्म समायोजन की आवश्यकता अभी भी बनी हुई है।
पाठकों को याद हो सकता है कि EUV लिथोग्राफी उपकरणों को चीन में बेचने पर प्रतिबंध लगा दिया गया है, क्योंकि संयुक्त राज्य अमेरिका की सरकार ने पहले नीदरलैंड की सरकार पर दबाव डालकर इन उन्नत उपकरणों की बिक्री रोकने के लिए कहा था। वास्तव में, ASML ने कभी भी चीन को एक भी EUV स्कैनर नहीं भेजा है, क्योंकि नीदरलैंड की सरकार, संयुक्त राज्य अमेरिका के दबाव में, 2019 में निर्यात पर प्रतिबंध लगा दिया था। अब तक कोई भी प्रणाली चीन में तैनात नहीं की गई है, लेकिन ASML चीनी ग्राहकों को DUV प्रणालियों की आपूर्ति जारी रखे हुए है।更重要的是, एक प्रकाश स्रोत विकसित करना केवल एक पूर्ण EUV स्कैनर बनाने का एक हिस्सा है। ऐसी प्रणालियों को अत्यधिक सटीक परावर्तक ऑप्टिक्स, परिष्कृत वेपर्स पोजिशनिंग तंत्र और कई उप-प्रणालियों में जटिल एकीकरण की भी आवश्यकता होती है। चीनी कंपनियां वर्तमान में डूब DUV मशीनों का बड़े पैमाने पर उत्पादन कर रही हैं। उदाहरण के लिए, Shanghai Yuliangsheng Technology एक आर्गन-फ्लोराइड (ArF) एक्साइमर लेजर विकसित कर रही है जो 193 nm तरंग दैर्ध्य पर DUV प्रकाश उत्पन्न करने के लिए है, लेकिन EUV अभी भी वर्षों दूर है। यहां तक कि एक कार्यात्मक स्वदेशी EUV प्रकाश स्रोत होने का भी अर्थ यह नहीं है कि चीन ने एक पूर्ण EUV लिथोग्राफी प्रणाली विकसित की है।
स्रोत: TechPowerUp News · HeadlinesBriefing द्वारा सारांशित