इंटेल ने हाई न्यूमेरिकल अपर्चर (हाई NA) एक्सट्रीम अल्ट्रावायलेट (EUV) लिथोग्राफी का उपयोग करके 300 मिमी के 10 लाख सिलिकॉन वेफर्स प्रोसेस किए हैं, जो उन्नत चिप निर्माण में एक प्रमुख मील का पत्थर है। कंपनी ने शुरू में 2024 में 14A नोड पर शोध के लिए ASML के TWINSCAN EXE:5000 सिस्टम तैनात किए थे, लेकिन तब से हाई-NA के उपयोग को 18A नोड और चुनिंदा "पैंथर लेक" SKU तक बढ़ा दिया है। इंटेल अपने हाई-NA सेटअप को इंटेल फाउंड्री के माध्यम से बाहरी ग्राहकों को भी पेश कर रहा है। ASML के सहयोग से, कंपनी ने TWINSCAN EXE:5200 B स्कैनर का उपयोग करके अपने 14A नोड के लिए स्वीकृति परीक्षण पूरा किया, जिससे वेफर आउटपुट में सुधार हुआ। पहले, इंटेल ने एक ही तिमाही में 30,000 से अधिक वेफर्स प्रोसेस किए थे, एक लेयर के लिए प्रोसेस स्टेप्स को 40 से घटाकर 10 से कम कर दिया, जिससे साइकिल टाइम में उल्लेखनीय तेजी आई। इंटेल उत्पादन में सक्रिय रूप से हाई-NA EUV लिथोग्राफी का उपयोग करने वाली एकमात्र कंपनी बनी हुई है। TSMC का मानना है कि वह मौजूदा लो-NA EUV तकनीक के साथ प्रतिस्पर्धी बनी रह सकती है, जबकि सैमसंग फाउंड्री कथित तौर पर अपने 1 एनएम नोड के लिए 2030 तक हाई-NA अपनाने में देरी कर रही है। ASML के हाई-NA सिस्टम की कीमत लगभग 400 मिलियन डॉलर है, जो उन्हें आधुनिक फैब्स के लिए भी बेहद महंगा बनाता है।