Chinese Startup Unveils First Homegrown EUV Laser Source

Chinese startup Langdao Silex has demonstrated the development of the first homegrown extreme ultraviolet lithography (EUV) laser source, gradually paving the way for China's complete supply chain independence. The system, named FlintNano LPP-OXXO, reportedly delivers over 15 W of EUV output and uses components that are approximately 90% domestically sourced or developed. It relies on laser-produced plasma (LPP), a technique using high-powered lasers to generate plasma and produce the EUV radiation required for advanced chip manufacturing, similar to the process used by ASML. According to specifications published by Langdao Silex, the Flint Nano system employs a 1,000 W driving laser operating at repetition rates between 1 and 20 kHz. Its conversion efficiency exceeds 2%, and the company claims the equipment can operate continuously for more than 100 hours. The prototype is reportedly suitable for wafer exposure testing, although further finetuning is still necessary.

Readers might recall that EUV lithography tools are banned from being sold in China, as the United States government previously pressured the Dutch government to halt sales of these advanced tools. In fact, ASML has never shipped a single EUV scanner to China, as the Dutch government, under pressure from the United States, blocked exports in 2019. Not a single system has been deployed, but ASML continues to ship DUV systems to Chinese customers. More importantly, developing a light source is only one part of building a complete EUV scanner. Such systems also require extremely precise reflective optics, sophisticated wafer positioning mechanisms, and complex integration across numerous subsystems. Chinese companies are currently mass-producing immersion DUV machines. For example, Shanghai Yuliangsheng Technology is creating an argon-fluoride (ArF) excimer laser to produce DUV light at a 193 nm wavelength, but EUV is still years away. Even a functional domestic EUV light source does not mean China has developed a full EUV lithography system.

الStartup الصينية Langdao Silex أظهرت تطوير أول مصدر ليزر litografía فوق البنفسجي الشديد (EUV) محلي الصنع، ممهدة تدريجيًا الطريق لاستقلال سلاسل التوريد الصينية بالكامل. النظام، المسمى FlintNano LPP-OXXO، reportedly يوفر أكثر من 15 واط من إخراج EUV ويستخدم مكونات تبلغ نسبتها تقريبًا 90% محلية الصنع أو مطورة محليًا. يعتمد على الليزر-produce plasma (LPP)، وهي تقنية تستخدم ليزرات عالية الطاقة لتوليد البلازما وإنتاج الإشعاع EUV المطلوب لتصنيع الشرائح المتقدمة، مشابهة للعملية المستخدمة بواسطة ASML. وفقًا للمواصفات التي نشرتها Langdao Silex، يستخدم نظام Flint Nano ليزر دفع بقوة 1,000 واط يعمل بترددات تكرار بين 1 و20 كيلوهرتز. كفاءة التحويل تتجاوز 2%، وتزعم الشركة أن المعدات يمكن أن تعمل بشكل مستمر لأكثر من 100 ساعة. النموذج الأولي reportedly مناسب لاختبار تعريض الرقاقات، على الرغم من أن ضبطًا دقيقًا إضافيًا لا يزال ضروريًا.

قد يتذكر القراء أن أدوات litografía EUV محظورة من البيع في الصين، حيث ضغطت حكومة الولايات المتحدة سابقًا على الحكومة الهولندية لوقف مبيعات هذه الأدوات المتقدمة. في الواقع، لم تشحن ASML أبدًا ماسح EUV واحد إلى الصين، حيث حظرت الحكومة الهولندية، تحت ضغط من الولايات المتحدة، الصادرات في 2019. لم يتم نشر أي نظام حتى الآن، لكن ASML تستمر في شحن أنظمة DUV للعملاء الصينيين. والأهم من ذلك، أن تطوير مصدر ضوء هو مجرد جزء واحد من بناء نظام EUV مسح كامل. مثل هذه الأنظمة تتطلب أيضًا بصريات عاكسة دقيقة للغاية، وآليات متطورة لتحديد موضع الرقاقات، وتكاملًا معقدًا عبر العديد من الأنظمة الفرعية. الشركات الصينية حاليًا تنتج بكميات كبيرة آلات DUV غمر. على سبيل المثال، Shanghai Yuliangsheng Technology تطور ليزر excimer فلوريد الأرجون (ArF) لإنتاج ضوء DUV بطول موجة 193 نانومتر، لكن EUV لا يزال بعيدًا سنوات. حتى وجود مصدر ضوء EUV وظيفي محلي الصنع لا يعني أن الصين طورت نظام litografía EUV كاملًا.

চীনা স্টার্টআপ Langdao Silex প্রথম স্বদেশি অতিরিক্ত অল্ট্রা বায়লেট (EUV) লিথোগ্রাফি লেজার উত্সের উন্নয়ন দেখিয়েছে, যা চীনের সরবরাহ শৃঙ্খলার পূর্ণ স্বাধীনতার দিকে ধীরে-ধীরে পথ প্রস্তুত করছে। এই সিস্টেমের নাম FlintNano LPP-OXXO, যা reportedly 15 W-এর বেশি EUV আউটপুট দেয় এবং এর উপকরণের প্রায় 90% স্বদেশীভাবে উৎস বা উন্নয়ন করা হয়েছে। এটি লেজার-উত্পাদিত প্লাজমা (LPP) প্রযুক্তি पर নির্ভর করে, যেখানে উচ্চ শক্তির লেজার ব্যবহার করে প্লাজমা তৈরি করে এবং উন্নত চিপ উৎপাদনের জন্য প্রয়োজনীয় EUV विकिरণ তৈরি করে, যা ASML দ্বারা ব্যবহৃত প্রক্রিয়ার সাথে সমান। Langdao Silex দ্বারা প্রকাশিত স্পেসিফিকেশनों অনুযায়ী, Flint Nano সিস্টেম একটি 1,000 W চালিত লেজার ব্যবহার করে যা 1 এবং 20 kHz মধ্যে পুনরাবৃত্তি दर पर কাজ করে। এর রূপান্তর দক্ষতা 2%-এর বেশি, এবং কোম্পানির দাবি যে যন্ত্রটি ধারাবাহিকভাবে 100 ঘন্টা থেকে বেশি সময় চালাতে পারে। প্রোটোটাইপ reportedly ওয়افر এক্সপোজার পরীক্ষণের জন্য উপযুক্ত, যদিও আরও সূক্ষ্ম টিউনিং এখনও প্রয়োজন।

পাঠকদের স্মরণ থাকতে পারে যে EUV লিথোগ্রাফি সরঞ্জামগুলো চীনে বিক্রির জন্য নিষিদ্ধ, কারণ যুক্তরাষ্ট্রের সরকার আগে নেদারল্যান্ডের সরকারে দবা দিয়েছিল উন্নত এই সরঞ্জামগুলো বিক্রি বন্ধ করতে। 사실, ASML কখনো চীনে একটি একক EUV স্ক্যানারও পাঠানোনি, কারণ নেদারল্যান্ডের সরকার, যুক্তরাষ্ট্রের চাপে, 2019 সালে রপ্তানি বন্ধ করে দিয়েছিল। এখনো কোনো সিস্টেম চীনে স্থাপন করা হয়নি, কিন্তু ASML চীনের গ্রাহকদের DUV সিস্টেমগুলো সরবরাহ চালিয়ে যাচ্ছে। আরো গুরুত্বপূর্ণ, একটি আলোক উত্স উন্নয়ন করা শুধুমাত্র একটি সম্পূর্ণ EUV স্ক্যানার তৈরি করার একটি অংশ। এই ধরনের সিস্টেমগুলোর lisäksi অতিশয় সঠিক প্রতিবিম্বক অপটিক্স, জটিল ওয়াফার পজিশনিং মেকানিজ़ম এবং licz subsystems জটিল একीकरणও প্রয়োজন। চীনের কোম্পানিগুলি বর্তমানে ডুব DUV মেশিনের量産 করছে। উদাহরণস্বরূপ, Shanghai Yuliangsheng Technology একটি আর্গন-ফ্লোরাইড (ArF) এক্সাইমার লেজার তৈরি করছে যা 193 nm তরঙ্গ দৈর্ঘ্যে DUV আলো তৈরি করতে, কিন্তু EUV এখনও বছর দূরে। এমনকি একটি কার্যকর স্বদেশি EUV আলো উত্স থাকলেও, इसका मतलब यह नहीं है कि चीन ने एक पूर्ण EUV लिथोग्राफी प्रणाली विकसित की है।

Das chinesische Startup Langdao Silex hat die Entwicklung der ersten einheimischen Extreme-Ultraviolett-(EUV-)Laserquelle für die Lithografie demonstriert, wodurch schrittweise der Weg zur vollständigen Lieferkettenunabhängigkeit Chinas geebnet wird. Das System, genannt FlintNano LPP-OXXO, reportedly liefert mehr als 15 W EUV-Ausgang und verwendet Komponenten, die zu etwa 90 % einheimisch beschafft oder entwickelt wurden. Es beruht auf lasererzeugtem Plasma (LPP), einer Technik, bei der hochleistungsfähige Laser verwendet werden, um Plasma zu erzeugen und das für die Herstellung fortschrittlicher Chips erforderliche EUV-Strahlung zu erzeugen, ähnlich dem Verfahren, das von ASML verwendet wird. Laut den von Langdao Silex veröffentlichten Spezifikationen verwendet das Flint Nano-System einen Antriebslaser mit einer Leistung von 1,000 W, der mit Wiederholraten zwischen 1 und 20 kHz arbeitet. Seine Umwandlungseffizienz übersteigt 2 %, und das Unternehmen behauptet, dass die Ausrüstung kontinuierlich länger als 100 Stunden betrieben werden kann. Der Prototyp reportedly eignet sich für Wafer-Expositionstests, obwohl eine weitere Feinabstimmung noch erforderlich ist.

Die Leser könnten sich erinnern daran, dass EUV-Lithografie-Werkzeuge in China verboten sind, da die US-Regierung zuvor die niederländische Regierung unter Druck gesetzt hatte, den Verkauf dieser fortschrittlichen Werkzeuge zu stoppen. Tatsächlich hat ASML niemals einen einzigen EUV-Scanner nach China geliefert, da die niederländische Regierung unter US-Druck die Exporte im Jahr 2019 blockiert hat. Bislang wurde kein System in China eingesetzt, aber ASML liefert weiterhin DUV-Systeme an chinesische Kunden. Noch wichtiger ist, dass die Entwicklung einer Lichtquelle nur ein Teil beim Aufbau eines vollständigen EUV-Scanners ist. Solche Systeme benötigen außerdem äußerst präzise reflektierende Optiken, ausgeklügelte Wafer-Positionierungsmechanismen und eine komplexe Integration in zahlreiche Unter-systeme. Chinesische Unternehmen stellen derzeit im großen Stil immersive DUV-Maschinen her. Beispielsweise entwickelt Shanghai Yuliangsheng Technology einen Argon-Fluorid-(ArF-)Excimer-Laser zur Erzeugung von DUV-Licht bei einer Wellenlänge von 193 nm, aber EUV ist noch Jahre entfernt. Selbst ein funktionsfähiges einheimisches EUV-Lichtquelle bedeutet nicht, dass China ein vollständiges EUV-Lithografie-System entwickelt hat.

La startup china Langdao Silex ha demostrado el desarrollo de la primera fuente láser de litografía ultravioleta extrema (EUV) de origen nacional, allanando gradualmente el camino hacia la independencia total de la cadena de suministro de China. El sistema, llamado FlintNano LPP-OXXO, reportedly ofrece más de 15 W de salida EUV y utiliza componentes que son aproximadamente 90% de origen nacional o desarrollados localmente. Se basa en plasma producido por láser (LPP), una técnica que utiliza láseres de alta potencia para generar plasma y producir la radiación EUV necesaria para la fabricación avanzada de chips, similar al proceso utilizado por ASML. Según las especificaciones publicadas por Langdao Silex, el sistema Flint Nano emplea un láser impulsor de 1,000 W que opera a tasas de repetición entre 1 y 20 kHz. Su eficiencia de conversión supera el 2%, y la empresa afirma que el equipo puede funcionar continuamente durante más de 100 horas. El prototipo reportedly es adecuado para pruebas de exposición de wafers, aunque aún se necesita un ajuste fino adicional.

Los lectores podrían recordar que las herramientas de litografía EUV están prohibidas para su venta en China, ya que el gobierno de Estados Unidos presionó previamente al gobierno holandés para detener las ventas de estas herramientas avanzadas. De hecho, ASML nunca ha enviado un solo escáner EUV a China, ya que el gobierno holandés, bajo presión de Estados Unidos, bloqueó las exportaciones en 2019. Ningún sistema ha sido implementado, pero ASML continúa enviando sistemas DUV a clientes chinos. Más importante aún, desarrollar una fuente de luz es solo una parte de la construcción de un escáner EUV completo. Dichos sistemas también requieren ópticas reflectantes extremadamente precisas, mecanismos sofisticados de posicionamiento de wafers y una integración compleja en numerosos subsistemas. Las empresas chinas actualmente están produciendo en masa máquinas DUV de inmersión. Por ejemplo, Shanghai Yuliangsheng Technology está creando un láser excímero de fluoruro de argón (ArF) para producir luz DUV en una longitud de onda de 193 nm, pero el EUV aún está a años de distancia. Incluso tener una fuente de luz EUV funcional nacional no significa que China haya desarrollado un sistema completo de litografía EUV.

La startup chinoise Langdao Silex a démontré le développement de la première source laser de lithographie ultraviolette extrême (EUV) développée localement, ouvrant progressivement la voie à l'indépendance totale de la chaîne d'approvisionnement de la Chine. Le système, nommé FlintNano LPP-OXXO, reportedly fournit plus de 15 W de sortie EUV et utilise des composants qui sont approximativement 90% d'origine nationale ou développés localement. Il repose sur le plasma produit par laser (LPP), une technique utilisant des lasers haute puissance pour générer du plasma et produire le rayonnement EUV nécessaire à la fabrication avancée de puces, similaire au processus utilisé par ASML. Selon les spécifications publiées par Langdao Silex, le système Flint Nano emploie un laser pilote de 1,000 W fonctionnant à des fréquences de répétition comprises entre 1 et 20 kHz. Son efficacité de conversion dépasse 2 %, et l'entreprise affirme que l'équipement peut fonctionner en continu pendant plus de 100 heures. Le prototype reportedly convient aux tests d'exposition des wafers, bien qu'un réglage fin supplémentaire soit encore nécessaire.

Les lecteurs pourraient se rappeler que les outils de lithographie EUV sont interdits à la vente en Chine, car le gouvernement américain avait auparavant pressé le gouvernement néerlandais pour arrêter la vente de ces outils avancés. En fait, ASML n'a jamais expédié un seul scanner EUV vers la Chine, car le gouvernement néerlandais, sous la pression des États-Unis, a bloqué les exportations en 2019. Aucun système n'a encore été déployé, mais ASML continue d'expédier des systèmes DUV aux clients chinois. Plus important encore, développer une source de lumière n'est qu'une partie de la construction d'un scanner EUV complet. De tels systèmes nécessitent également des optiques réfléchissantes extrêmement précises, des mécanismes sophistiqués de positionnement des wafers et une intégration complexe dans de nombreux sous-systèmes. Les entreprises chinoises produisent actuellement en série des machines DUV en immersion. Par exemple, Shanghai Yuliangsheng Technology développe un laser excimer au fluorure d'argon (ArF) pour produire de la lumière DUV à une longueur d'onde de 193 nm, mais l'EUV reste encore éloigné de plusieurs années. Même disposer d'une source de lumière EUV fonctionnelle développée localement ne signifie pas que la Chine ait développé un système complet de lithographie EUV.

चीनी स्टार्टअप Langdao Silex ने पहली स्वदेशी अत्यधिक पराबैंगनी (EUV) लिथोग्राफी लेजर स्रोत का विकास प्रदर्शित किया है, जो चीन की आपूर्ति श्रृंखला की पूर्ण स्वतंत्रता की ओर धीरे-धीरे मार्ग प्रशस्त कर रहा है। इस प्रणाली का नाम FlintNano LPP-OXXO है, जो reportedly ponad 15 W EUV आउटपुट देती है और इसके घटक लगभग 90% स्वदेशी रूप से sourced या विकसित किए गए हैं। यह लेजर-उत्पादित प्लाज्मा (LPP) तकनीक पर निर्भर करता है, जिसमें उच्च शक्ति वाले लेजरों का उपयोग प्लाज्मा उत्पन्न करने और उन्नत चिप निर्माण के लिए आवश्यक EUV विकिरण उत्पन्न करने के लिए किया जाता है, जो ASML द्वारा उपयोग की जाने वाली प्रक्रिया के समान है। Langdao Silex द्वारा प्रकाशित विनिर्देशों के अनुसार, Flint Nano प्रणाली एक 1,000 W चलाने वाले लेजर का उपयोग करती है जो 1 और 20 kHz के बीच दोहराव दर पर संचालित होती है। इसका रूपांतरण दक्षता 2% से अधिक है, और कंपनी का दावा है कि उपकरण लगातार 100 घंटे से अधिक समय तक चल सकता है। प्रोटोटाइप reportedly वेपर एक्सपोजर परीक्षण के लिए उपयुक्त है, हालांकि आगे सूक्ष्म समायोजन की आवश्यकता अभी भी बनी हुई है।

पाठकों को याद हो सकता है कि EUV लिथोग्राफी उपकरणों को चीन में बेचने पर प्रतिबंध लगा दिया गया है, क्योंकि संयुक्त राज्य अमेरिका की सरकार ने पहले नीदरलैंड की सरकार पर दबाव डालकर इन उन्नत उपकरणों की बिक्री रोकने के लिए कहा था। वास्तव में, ASML ने कभी भी चीन को एक भी EUV स्कैनर नहीं भेजा है, क्योंकि नीदरलैंड की सरकार, संयुक्त राज्य अमेरिका के दबाव में, 2019 में निर्यात पर प्रतिबंध लगा दिया था। अब तक कोई भी प्रणाली चीन में तैनात नहीं की गई है, लेकिन ASML चीनी ग्राहकों को DUV प्रणालियों की आपूर्ति जारी रखे हुए है।更重要的是, एक प्रकाश स्रोत विकसित करना केवल एक पूर्ण EUV स्कैनर बनाने का एक हिस्सा है। ऐसी प्रणालियों को अत्यधिक सटीक परावर्तक ऑप्टिक्स, परिष्कृत वेपर्स पोजिशनिंग तंत्र और कई उप-प्रणालियों में जटिल एकीकरण की भी आवश्यकता होती है। चीनी कंपनियां वर्तमान में डूब DUV मशीनों का बड़े पैमाने पर उत्पादन कर रही हैं। उदाहरण के लिए, Shanghai Yuliangsheng Technology एक आर्गन-फ्लोराइड (ArF) एक्साइमर लेजर विकसित कर रही है जो 193 nm तरंग दैर्ध्य पर DUV प्रकाश उत्पन्न करने के लिए है, लेकिन EUV अभी भी वर्षों दूर है। यहां तक कि एक कार्यात्मक स्वदेशी EUV प्रकाश स्रोत होने का भी अर्थ यह नहीं है कि चीन ने एक पूर्ण EUV लिथोग्राफी प्रणाली विकसित की है।

Startup Cina Langdao Silex telah menunjukkan pembangunan pertama sumber laser litografi ultravioleta ekstrem (EUV) buatan dalam negeri, secara bertahap membuka jalan menuju kemandirian rantai pasok Cina sepenuhnya. Sistem tersebut, bernama FlintNano LPP-OXXO, reportedly menghasilkan lebih dari 15 W output EUV dan menggunakan komponen yang sekitar 90% bersumber dalam negeri atau dikembangkan secara lokal. Ia bergantung pada teknologi plasma yang dihasilkan laser (LPP), teknik yang menggunakan laser berdaya tinggi untuk menghasilkan plasma dan menghasilkan radiasi EUV yang diperlukan untuk pembuatan chip tingkat lanjut, serupa dengan proses yang digunakan oleh ASML. Menurut spesifikasi yang diterbitkan oleh Langdao Silex, sistem Flint Nano menggunakan laser penggerak berdaya 1,000 W yang beroperasi pada frekuensi ulangan antara 1 dan 20 kHz. Efisiensi konversinya melebihi 2%, dan perusahaan klaim bahwa peralatan dapat beroperasi terus menerus lebih dari 100 jam. Prototipe reportedly sesuai untuk uji paparan wafer, meskipun masih diperlukan penyesuaian halus lebih lanjut.

Pembaca mungkin ingat bahwa alat litografi EUV dilarang dijual di Cina, karena pemerintah Amerika Serikat sebelumnya menekan pemerintah Belanda untuk menghentikan penjualan alat tingkat lanjut ini. Faktanya, ASML tidak pernah mengirimkan satu pun scanner EUV ke Cina, karena pemerintah Belanda, tekanan dari Amerika Serikat, memblokir ekspor pada tahun 2019. Tidak ada sistem yang pernah dipasang di Cina hingga saat ini, tetapi ASML terus mengirimkan sistem DUV ke pelanggan Cina. Lebih penting lagi, pengembangan sumber cahaya hanya merupakan satu bagian dari pembuatan scanner EUV lengkap. Sistem seperti ini juga membutuhkan optik reflektor yang sangat presisi, mekanisme penempatan wafer yang canggih, dan integrasi kompleks di banyak subsistem. Perusahaan Cina saat ini sedang memproduksi mesin DUV imersi secara massal. Sebagai contoh, Shanghai Yuliangsheng Technology sedang mengembangkan laser excimer fluorida argon (ArF) untuk menghasilkan cahaya DUV dengan panjang gelombang 193 nm, tetapi EUV masih butuh beberapa tahun lagi. Bahkan memiliki sumber cahaya EUV fungsional buatan dalam negeri tidak berarti Cina telah mengembangkan sistem litografi EUV lengkap.

中国スタートアップのLangdao Silexは、最初の国産極端紫外線（EUV）リソグラフィーレーザー光源の開発を実証し、中国のサプライチェーンの完全な独立への道を少しずつ開いています。このシステムはFlintNano LPP-OXXOと名付けられ、 reportedly 15 W以上のEUV出力を提供し、その構成要素の約90%が国産または国内開発によるものです。このシステムはレーザー生成プラズマ（LPP）技術に依存しており、高出力レーザーを使用してプラズマを生成し、先進チップ製造に必要なEUV放射を生み出します。これはASMLが使用するプロセスと同様です。Langdao Silexが公開した仕様によると、Flint Nanoシステムは1,000 Wの駆動レーザーを使用し、1〜20 kHzの繰り返し周波数で動作します。変換効率は2%を超え、同社はこの装置が100時間以上連続して動作できると主張しています。このプロトタイプは reportedly ウェーハ露出テストに適していますが、さらなる微調整がまだ必要です。

読者は記憶にあるかもしれませんが、EUVリソグラフィーツールは米国政府がオランダ政府に圧力をかけて販売を停止させたため、中国への販売が禁止されています。実際、ASMLはこれまでに中国へEUVスキャナーを単一台も出荷しておらず、オランダ政府が米国の圧力により2019年に輸出をブロックしたためです。これまでにどのシステムも中国に導入されていませんが、ASMLは引き続き中国の顧客にDUVシステムを供給しています。さらに重要なことに、光源の開発は完全なEUVスキャナーを構築する一部に過ぎません。これらのシステムには、極めて精密な反射光学系、高度なウェーハ位置決め機構、そして多数のサブシステムにわたる複雑な統合も必要です。中国の企業は現在、浸漬型DUVマシンを量産しています。たとえば、上海裕凌升科技はアルゴンフッ化物（ArF）エキシマーレーザーを開発し、193 nm波長のDUV光を生成していますが、EUVの実現はまだ何年も先です。機能的な国内EUV光源を開発したとしても、それが中国が完全なEUVリソグラフィーシステムを開発したことを意味するわけではありません。

A startup chinesa Langdao Silex demonstrou o desenvolvimento da primeira fonte laser de litografia ultravioleta extrema (EUV) desenvolvida localmente, pavimentando gradualmente o caminho para a independência total da cadeia de suprimentos da China. O sistema, chamado FlintNano LPP-OXXO, reportedly fornece mais de 15 W de saída EUV e utiliza componentes que são aproximadamente 90% de origem nacional ou desenvolvidos localmente. Baseia-se no plasma produzido por laser (LPP), uma técnica que utiliza lasers de alta potência para gerar plasma e produzir a radiação EUV necessária para a fabricação avançada de chips, semelhante ao processo utilizado pela ASML. De acordo com as especificações publicadas pela Langdao Silex, o sistema Flint Nano emprega um laser de acionamento de 1,000 W operando em taxas de repetição entre 1 e 20 kHz. Sua eficiência de conversão excede 2%, e a empresa afirma que o equipamento pode operar continuamente por mais de 100 horas. O protótipo reportedly é adequado para testes de exposição de wafers, embora ainda seja necessário um ajuste fino adicional.

Os leitores podem se lembrar de que as ferramentas de litografia EUV são proibidas de serem vendidas na China, pois o governo dos Estados Unidos anteriormente pressionou o governo holandês a interromper as vendas dessas ferramentas avançadas. Na verdade, a ASML nunca enviou um único scanner EUV para a China, pois o governo holandês, sob pressão dos Estados Unidos, bloqueou as exportações em 2019. Nenhum sistema foi implantado até agora, mas a ASML continua enviando sistemas DUV para clientes chineses. Mais importante ainda, desenvolver uma fonte de luz é apenas uma parte da construção de um scanner EUV completo. Tais sistemas também requerem ópticas refletivas extremamente precisas, mecanismos sofisticados de posicionamento de wafers e uma integração complexa em numerosos subsistemas. As empresas chinesas estão atualmente produzindo em massa máquinas DUV de imersão. Por exemplo, a Shanghai Yuliangsheng Technology está desenvolvendo um laser excimer de fluoreto de argônio (ArF) para produzir luz DUV em um comprimento de onda de 193 nm, mas o EUV ainda está a anos de distância. Mesmo possuindo uma fonte de luz EUV funcional desenvolvida localmente, isso não significa que a China tenha desenvolvido um sistema completo de litografia EUV.

Китайский стартап Langdao Silex продемонстрировал разработку первого отечественного источника лазера экстремального ультрафиолета (EUV) для литографии, постепенно прокладывая путь к полной независимости цепочки поставок Китая. Система, названная FlintNano LPP-OXXO, reportedly обеспечивает более 15 Вт выходного излучения EUV и использует компоненты, которые примерно на 90% являются отечественного происхождения или разработаны локально. Она основана на лазерно-порождённой плазме (LPP), технике, использующей высокомощные лазеры для генерации плазмы и производства излучения EUV, необходимого для передового производства чипов, аналогично процессу, используемому ASML. Согласно спецификациям, опубликованным Langdao Silex, система Flint Nano использует движущий лазер мощностью 1,000 Вт, работающий с частотой повторения от 1 до 20 кГц. Ее коэффициент преобразования превышает 2%, и компания заявляет, что оборудование может работать непрерывно более 100 часов. Прототип reportedly подходит для тестирования экспозиции пластин, хотя для этого всё ещё необходима дополнительная тонкая настройка.

Читатели могут вспомнить, что инструменты EUV-литографии запрещены к продаже в Китае, поскольку правительство США ранее оказывало давление на правительство Нидерландов, чтобы остановить продажи этих передовых инструментов. Фактически, ASML никогда не поставляла ни одного сканера EUV в Китай, поскольку правительство Нидерландов, под давлением США, заблокировало экспорт в 2019 году. Ни одной системы пока не развернуто, но ASML продолжает поставлять системы DUV китайским клиентам. Более того, разработка источника света является лишь одной частью создания полной системы EUV-литографии. Такие системы также требуют чрезвычайно точных отражающих оптик, сложных механизмов позиционирования пластин и сложной интеграции во множество подсистем. Китайские компании в настоящее время серийно производят иммерсионные DUV-машины. Например, Shanghai Yuliangsheng Technology разрабатывает лазер аргон-фторид (ArF) эксимерный для производства света DUV длиной волны 193 нм, но EUV всё ещё находится на расстоянии нескольких лет. Даже наличие функционального отечественного источника света EUV не означает, что Китай разработал полную систему EUV-литографии.

中国初创公司朗道硅芯已展示首款国产极紫外光刻（EUV）激光光源的研发进展，逐步为中国实现供应链完全独立铺平道路。该系统命名为FlintNano LPP-OXXO，据报道可输出超过15 W的EUV光，且其组件约90%为国产或自主研发。该技术采用激光产生等离子体（LPP）方式，利用高功率激光产生等离子体以生成先进芯片制造所需的EUV辐射，这一过程与ASML所使用的工艺类似。根据朗道硅芯公布的规格，Flint Nano系统采用一台1,000 W驱动激光器，重复频率在1至20 kHz之间。其转换效率超过2%，公司宣称该设备可连续运行超过100小时。原型机据称适用于晶圆曝光测试，尽管仍需进一步微调。

读者可能记得，EUV光刻工具被禁止向中国销售，因为美国政府曾施压荷兰政府阻止这些先进工具的销售。事实上，ASML从未向中国交付过一台EUV扫描仪，因为荷兰政府在美国压力下于2019年阻止了出口。至今尚未有任何系统在中国部署，但ASML继续向中国客户交付DUV系统。更重要的是，开发光源仅是构建完整EUV扫描仪的一部分。此类系统还需要极其精确的反射光学元件、先进的晶圆定位机制以及众多子系统的复杂集成。中国企业目前正在大规模生产沉浸式DUV机器。例如，上海裕凌升科技正在开发氟化氩（ArF）准分子激光器，以产生193 nm波长的DUV光，但EUV仍需数年时间。即使拥有功能性的国内EUV光源，也不意味着中国已研发出完整的EUV光刻系统。