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米国、ASML DUV輸出制限検討

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NU.nlによると、米国政府は、ASMLに対してほぼすべての半導体製造装備の中国輸出を停止するよう荷党政府に圧力をかける可能性があります。報告によると、中国に拠点を置くASMLは、中国のクライアントへの機械の輸出を停止するよう圧力を受けており、米国政府はこれらの機械の内陸のクライアントへの輸出に反対してロビー活動を行っています。読者は、最も先進的な極紫外線(EUV)リソグラフィツールが既に中国での販売が禁止されていることを覚えているかもしれません。これは、米国政府が以前に先進的なツールの販売を停止するよう荷党政府に圧力をかけたためです。実際、ASMLは一台のEUVスキャナーも中国に出荷したことはなく、荷党政府は2019年に米国政府の圧力の下で輸出をブロックしました。その禁輸の後の数年間で、輸出制限は旧世代のDUVスキャナーに焦点を当て、中国への出荷前に国家輸出ライセンスが必要となりました。しかし、新しい双党の法案が現在国会で検討中であり、輸出管理を一層厳しくすることを目的としています。この法案は「ハードウェアに対する技術管理の多角的整列法」(MATCH法)と呼ばれており、米国政府は、同盟国にさえも古いDUV機械の輸出を禁止する技術的禁輸を実施するよう強制することを検討しています。これは、ASMLが中国との関係をほぼゼロにする可能性を意味するものであり、旧世代のDUVツールが中国の輸出制限の対象になっているためです。しかし、中国が完全にDUVツールを失うことはないかもしれません。というのも、Shanghai Yuliangsheng Technologyが7月に浸漬式DUVリソグラフィマシンの限定生産を開始したと報告されているからです。